ASML: TSMC και Samsung υιοθετούν τα νέα μηχανήματα EUV των 400 εκατ. δολαρίων

ASML: TSMC και Samsung υιοθετούν τα νέα μηχανήματα EUV των 400 εκατ. δολαρίων
Photo: AFP
Η έκρηξη της ζήτησης για AI chips επιταχύνει την υιοθέτηση της τεχνολογίας High NA EUV, ενώ οι μεγαλύτεροι κατασκευαστές ημιαγωγών συμφωνούν και σε μεγαλύτερα photomasks για υψηλότερη παραγωγικότητα
  • Η Samsung σχεδιάζει να χρησιμοποιεί τα High NA EUV συστήματα της ASML σε μαζική παραγωγή από το 2028, ενώ η TSMC από το 2030.
  • Κάθε μηχάνημα μπορεί να κοστίζει έως και 400 εκατ. δολάρια, με την ASML να είναι η μοναδική εταιρεία παγκοσμίως που κατασκευάζει EUV συστήματα.
  • Η μετάβαση από photomasks 6 ιντσών σε 12 ιντσών θα μπορούσε να αυξήσει την παραγωγικότητα των High NA μηχανημάτων κατά περίπου 40%.

Η ASML εξασφαλίζει τη στήριξη των μεγαλύτερων ονομάτων της βιομηχανίας ημιαγωγών για τη νέα γενιά εξοπλισμού λιθογραφίας, καθώς η ζήτηση για ισχυρότερα chips τεχνητής νοημοσύνης συνεχίζει να αυξάνεται.

Η Samsung Electronics και η TSMC σχεδιάζουν να υιοθετήσουν τα προηγμένα συστήματα High NA EUV της ολλανδικής εταιρείας για παραγωγή μεγάλης κλίμακας, ακολουθώντας την Intel.

Η Samsung αναμένεται να ξεκινήσει τη χρήση τους από το 2028, ενώ η TSMC από το 2030.

Μηχανήματα αξίας έως 400 εκατ. δολαρίων

Τα High NA EUV συστήματα συγκαταλέγονται στον πιο προηγμένο εξοπλισμό παραγωγής ημιαγωγών στον κόσμο και μπορεί να κοστίζουν έως και 400 εκατ. δολάρια το καθένα.

Η ASML είναι η μοναδική εταιρεία παγκοσμίως που μπορεί να κατασκευάσει εξοπλισμό Extreme Ultraviolet Lithography, τεχνολογία απαραίτητη για την παραγωγή των πιο εξελιγμένων AI accelerators και άλλων προηγμένων chips.

Η εταιρεία παρουσίασε την πρώτη γενιά low NA EUV το 2019 και έκτοτε εργάζεται για την ευρύτερη υιοθέτηση της πιο σύνθετης τεχνολογίας High NA.

TSMC: Από την επιφυλακτικότητα στην υιοθέτηση

Η TSMC είχε εμφανιστεί μέχρι πρόσφατα πιο επιφυλακτική απέναντι στα νέα μηχανήματα, υποστηρίζοντας ότι το υψηλό κόστος δεν δικαιολογούνταν ακόμη από τα οφέλη παραγωγικότητας.

Τώρα, ωστόσο, σχεδιάζει να ξεκινήσει τη χρήση High NA συστημάτων με τα σημερινά photomasks 6 ιντσών από το 2030.

Παράλληλα, η TSMC και η ASML σχεδιάζουν να δημιουργήσουν γραμμή δοκιμών για photomasks 12 ιντσών έως το 2031, με στόχο η νέα τεχνολογία να περάσει σε παραγωγική χρήση μαζί με τα High NA συστήματα έως το 2033.

Η Samsung ξεκινά νωρίτερα

Η Samsung, ένας από τους μεγαλύτερους κατασκευαστές memory chips στον κόσμο, σχεδιάζει να αρχίσει να χρησιμοποιεί τα High NA μηχανήματα για παραγωγή μνημών ήδη από το 2028.

Η νοτιοκορεατική εταιρεία θα συνεργαστεί με τους υπόλοιπους παίκτες της βιομηχανίας για την ανάπτυξη των απαραίτητων τεχνολογιών photomask και της σχετικής υποδομής.

Η κίνηση έρχεται σε μια περίοδο κατά την οποία η παγκόσμια αγορά αντιμετωπίζει ελλείψεις σε memory chips λόγω της εκρηκτικής ζήτησης από AI data centers.

ΔΙΑΒΑΣΤΕ ΑΚΟΜΑ

Μεγαλύτερα photomasks, έως 40% υψηλότερη παραγωγικότητα

ASML, TSMC, Samsung και Intel συμφώνησαν επίσης να προχωρήσουν σταδιακά από τα σημερινά photomasks 6 ιντσών σε 12 ιντσών.

Τα photomasks λειτουργούν σαν «καλούπια» που χρησιμοποιούν φως για να αποτυπώσουν τα κυκλώματα πάνω στα silicon wafers.

Η αλλαγή θεωρείται τεχνικά δύσκολη και δαπανηρή, αλλά μπορεί να αποφέρει σημαντικά οφέλη.

Σύμφωνα με τον CTO της ASML, Marco Pieters, η νέα τεχνολογία θα μπορούσε να αυξήσει το throughput των High NA συστημάτων κατά περίπου 40%, μειώνοντας παράλληλα το κόστος και απλοποιώντας τον σχεδιασμό.

Γιατί η AI αλλάζει τα δεδομένα

Η έκρηξη της ζήτησης για τεχνητή νοημοσύνη πιέζει τη βιομηχανία να παράγει μεγαλύτερα, ισχυρότερα και πιο αποδοτικά chips.

Οι υπάρχοντες περιορισμοί στα photomasks 6 ιντσών έχουν οδηγήσει τις εταιρείες σε πιο σύνθετες λύσεις, όπως το κάθετο stacking πολλαπλών chips και πολύπλοκες διασυνδέσεις.

Η μετάβαση σε μεγαλύτερα photomasks και High NA λιθογραφία θα μπορούσε να επιτρέψει μεγαλύτερη κλίμακα και υψηλότερη παραγωγικότητα.

Στρατηγική νίκη για την ASML

Η συμμετοχή της TSMC είναι ιδιαίτερα σημαντική για την ASML, καθώς η ταϊβανέζικη εταιρεία αντιστοιχεί περίπου στο 16% των εσόδων της.

Με Samsung και Intel επίσης να στηρίζουν τη νέα τεχνολογία, οι τρεις μεγαλύτεροι πελάτες της ASML βρίσκονται πλέον στην ίδια κατεύθυνση.

Όπως ανέφερε ο Pieters, πρόκειται για «μεγάλο βήμα» για την υιοθέτηση του High NA σε παραγωγή μεγάλης κλίμακας.

Η κίνηση δείχνει ότι η AI δεν αλλάζει μόνο το software και τα ίδια τα chips, αλλά επιταχύνει και μια βαθιά αναδιάρθρωση στον τρόπο με τον οποίο κατασκευάζονται οι πιο προηγμένοι ημιαγωγοί του κόσμου.

ΔΙΑΒΑΣΤΕ ΠΕΡΙΣΣΟΤΕΡΕΣ ΕΙΔΗΣΕΙΣ: