Εξέλιξη-τομή για τους ημιαγωγούς: Τι ανακοίνωσε η ASML για το νέο τεράστιο σύστημα λιθογραφίας High NA EUV

Η ASML έφτασε στο «πρώτο φως» στο νέο τεράστιο σύστημα λιθογραφίας High NA EUV, επιβεβαίωσε την Τετάρτη ο ολλανδικός κατασκευαστής εξοπλισμού ημιαγωγών, ένα ορόσημο που σημαίνει ότι το εργαλείο λειτουργεί, αν και όχι σε πλήρη απόδοση.

Η επικεφαλής της τεχνολογικής ανάπτυξης της Intel, Ανν Κέλεχερ, ανέφερε για πρώτη φορά την πρόοδο κατά τη διάρκεια ομιλίας στο συνέδριο λιθογραφίας SPIE την Τρίτη στο Σαν Χοσέ.

Η ASML επιβεβαίωσε ότι οι παρατηρήσεις της Κέλεχερ ήταν ακριβείς.

Τα συστήματα λιθογραφίας χρησιμοποιούν εστιασμένες ακτίνες φωτός για να βοηθήσουν στη δημιουργία των μικροσκοπικών κυκλωμάτων των τσιπ υπολογιστών.

Τα εργαλεία High NA EUV της ASML, τα οποία έχουν το μέγεθος ενός διώροφου λεωφορείου και κοστίζουν περισσότερα από 350 εκατομμύρια δολάρια το καθένα, αναμένεται να συμβάλουν στη δημιουργία νέων γενεών μικρότερων και ταχύτερων τσιπ.

Το πρώτο υπάρχον εργαλείο High NA βρίσκεται στο εργαστήριο της ASML στο Βελντχόβεν της Ολλανδίας και το δεύτερο βρίσκεται υπό συναρμολόγηση σε εργοστάσιο της Intel κοντά στο Χίλσμπορο του Όρεγκπον στις ΗΠΑ.

Οι προηγμένοι κατασκευαστές τσιπ, συμπεριλαμβανομένης της TSMC και της Samsung, αναμένεται να υιοθετήσουν το εργαλείο τα επόμενα πέντε χρόνια, με την Intel να δηλώνει σε εκδήλωση την περασμένη εβδομάδα ότι σκοπεύει να χρησιμοποιήσει το εργαλείο στην παραγωγή για τη γενιά τσιπ 14A.

Στην ομιλία της, η Κέλεχερ ανέφερε ότι το μηχάνημα στο Βελντχόβεν χρησιμοποιήθηκε σε δοκιμή σε ένα λεπτό δίσκου (wafer) πυριτίου που έχει υποστεί επεξεργασία με φωτοευαίσθητα χημικά, ώστε να είναι έτοιμο να δεχτεί ένα σχέδιο κυκλώματος.

Εκπρόσωπος της ASML δήλωσε ότι το ορόσημο του πρώτου φωτός επιτεύχθηκε «πολύ πρόσφατα».

ΔΙΑΒΑΣΤΕ ΠΕΡΙΣΣΟΤΕΡΕΣ ΕΙΔΗΣΕΙΣ:

• Τι νέο έρχεται στον χώρο του cyber security
• Σε φάση «νηφαλιότητας» ο κλάδος του streaming – Γιατί «φρέναρε» η αύξηση των συνδρομητών;